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泓域咨询/微米级薄膜沉积设备项目规划方案
微米级薄膜沉积设备项目
规划方案
xxx（集团）有限公司
报告说明
在晶圆制造过程中，薄膜发挥着形成导电层或绝缘层、阻挡污染物和杂质渗透、提高吸光率、阻挡刻蚀等重要作用。由于芯片的线宽越来越窄、结构越来越复杂，薄膜性能参数精细化要求也随之提高，如先进制程的前段工艺对薄膜均匀性、颗粒数量控制、金属污染控制的要求逐步提高，台阶覆盖能力强、薄膜厚度控制精准的ALD设备因此被引入产线。
根据谨慎财务估算，项目总投资6886.30万元，其中：建设投资5657.38万元，占项目总投资的82.15%；建设期利息152.73万元，占项目总投资的2.22%；流
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