YS/T 935-2013电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南.pdf

ICS77.150.99 H 68 中华人民共和国有色金属行业标准 / — YST935 2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级 及杂质含量分析和报告标准指南 ㅤㅤㅤㅤ Standard uideforanalsisandreortin theim uritcontentand radeofhih g y p g p y g g uritmetallicsutterin taretsforelectronicthinfilma lications p y p g g pp 2013-10-17发布 2014-03-01实施 中华人民共和国工业和信息化部 发 布 / — YST935 2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级 及杂质含量分析和报告标准指南 1 范围 、 、 本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法 杂质含量分析方法 抽样 规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。 ( )。 本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材 以下简称靶材 其他对纯度有较高要求的靶材 、 。 纯度等级 杂质含量分析及报告规范也可参照使用 2 规范性引用文件 。 , 下列文件对于本文件的应用是必不可少的 凡是注日期的引用文件 仅注日期的版本适用于本文 。 , ( ) 。 件 凡是不注日期的引用文件 其最新版本 包括所有的修改单 适用于本文件 / 、 、 、 GBT14265 金属材料中氢 氧 氮 碳和硫分析方法通则 / ( ) GBT20975所有部分 铝及铝合金化学分析方法 / 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 GBT29658 / 高纯铝化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 YST871 ㅤㅤㅤㅤ / 高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 YST922 3 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3.1 靶材 taret g ( ) , 。 物理气相沉积 PVD工艺中用于溅