GB/T 16527-1996硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范.pdf

ICS31.200 L 90 着羚 中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 GB/T16527一 1996 硬面感光板中光致抗蚀剂和 电子束抗蚀剂规范 Specificationforphotoresist/E-beam resistforhardsurfacephotoplates 1996一09一09发布 1997一05一01实施 国 家 技 术 监 督 局 发 布 GB/T 16527一 1996 前 言 本标准等效采用SEMI标准SEMIP3-90硬《面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范》。 本标准第5章要求中5.2条和5.3条均按SEMIP3-90制定，且根据产品使用方的需要，增加了 5.1条抗蚀剂涂层性能。 SEMI标准是半导体设备和材料国际标准，具有较高的科学性和先进性，内容全面，标准配套。本标 准与已经转化为我国标准的SEMIPl-92硬《面光掩模基板》(GB/T15871-1995),SEMIP2-86硬《 面光掩模用铬薄膜)(GB/T15870-1995),SEMIP4-92《圆形石英玻璃光掩模基板规范》 (GB/T16523-1996),SEMIP6-88《光掩模对准标记规范》(GB/T16524-1996)及准备转化为我国 标准的SEMIP21-92掩《模曝光系统准确度表示准则),SEMIP19-92《用于集成电路制造技术的检测 图形单元规范》等项标准形成一个微型梅图标准系列。 本标准附录A是提示的附录。 本标准由中华人民共和国电子工业部提出。 本标准由电子工业部标准化研究所归口。 本标准起草单位:长沙韶光微电子总公司、电子工业部标准化研究所。 本标准主要起草人:谈仁良、吴保华、王亦林、韩艳芬。 中华人民共和国国家标准 硬面感光板中光致抗蚀剂和 GB/T 16527一 1996 电子束抗蚀剂规范 Specificationforphotoresist/E-beam resistforhardsurfacephotoplates 1 范围 本标准规定了硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂涂层的要求、试验方法等内容。 本标准适用于硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂的涂层检验。 2 引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均 为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 GB191-90包装储运图示标志 GB2828-87逐批检查计数抽样程序及抽样表(适用于连续批的检查) GB2829-87周期检查计数抽样程序及抽样表(适用于生产过程稳定性的检查) GB7238-87玻璃及铬版表面平整度的测试方法 GB7239-87 铬版铬膜和胶膜厚度的测试方法 GB/T15871-1995 硬面光掩模基板 GB/T15870-1995 硬面光掩模用铬薄膜 SJ/T10584-94 微电子学光掩蔽技术术语 3 定义 本标准采用SJ/T10584中的定义。 4 分类与命名 抗蚀剂涂层符合本标准的硬面感光板基板应满足GB/T15871和GB/T15870规定的要求。抗蚀 剂的分类与型号命名按附录A(提示的附录)规定，主要依据如下(订货文件中应予注明): a)抗蚀剂材料; b)在质量区内抗蚀剂的厚度及其公差; 。)整个质量区抗蚀剂的均匀性; d)板与板之间抗蚀剂的一致性; e)抗蚀剂的焙烘时间和温度。 5 要求和测试方法 5.1 抗蚀剂涂层