窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅-光学精密工程.PDF

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12 2 Vol. 12 No. 2 20044 Optics and Precision Engineering Apr. 2004 1004924X(2004 X 1 1 1 1 1 吴文娟, 王占山 , 秦树基, 王风丽 , 王洪昌 , 1 1 2 2 张 众 , 陈玲燕, 徐向东 , 付绍军 ( 1. 同济大学 精密光学 程技术研究所 物理系, 上海200092; 2. 中国科技大学 同步辐射国家重点实验室, 安徽 合肥230029) :X , , W/ C, ,X , , , , ,, : 多层膜; 光栅;带宽; 刻蚀; 光谱分辨率; 刻蚀比 :TB43 :A Etching of multiplayer grating using a narrow spectral band Xray WU Wenjuan, WANG Zhanshan, IN Shuji, WANG Fengli, WANG Hongchang, ZHANG Zhong, CHEN Lingyan,XU Xiangdong, FU Shaojun ( 1. Institute of Precision Op tical Engineering , Dep artment of Physics, Tongj i University , Shanghai 200092, China 2. N ational Synchrotron Radiation L aboratory , Univ ersity of Science and Technology of China, H fe ei 230029, China) Abstract: Theories and technologies of extreme ultraviolet, soft Xray and Xray regions have made great progress since 1970s, and multilayer mirrors havefound wide applications in astronomy, microscopy, material science, syn chrotron radiation applications, and plasma diagnostics for their highreflectivity and good stability, however, they have a poor spectral resolution for Xray fluorescent measurement and synchrotron radiation monochromator. The spectral resolution of the multilayer must be improved for some high spectral resolution measurements. The spectral resolution can be improved by etching themultilayer into amultilayer grating at different etching ratios by the aver age density calculation method. W/ C

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