ALD原子层沉积系统.pdf

ALD 原子层沉积力量之源 1974年发明ALD技术，并一直致力于ALD技术的研究与系统的设计！ Picosun SUNALE™ R- P- 系列 ALD 系统 连接起学术研究和产业化的桥梁 薄膜的未来在这里 让Picosun 的SUNALETM反应器帮您实现原子层沉积的无限潜力。 超越你的想象力——用我们紧凑的、通用的、独特的、 可升级的ALD 系统设计，研究和生产之间的障碍再也不存在了。 Picosun – 定义ALD 的未来 “世界上没有一个ALD公司能拥有像Picosun那样的资质。” Picosun的研究历史和背景始于原子层沉积领域研究起步时期。ALD原子层沉 积系统是由Dr. Tuomo Suntola 于1974年在芬兰发明的，他现在是Picosun 董事会成员之一。Picosun的创建者和首席技术执行官(CTO)Mr. Sven Lindfors早在1975年已经创造出卓越的ALD系统，他被誉为“世界上经验最 为丰富的ALD反应器设计师”。 专心致力于ALD30余年 如今Picosun持续致力于ALD系统研究已经长达30多年，研究团队加在一起具 有200多年的最直接的原子层沉积专项技术研究经验。Picosun建立于2003 SEMI的组织主席和首席执行官Stanley T. Myers先生2004年于慕尼黑欧洲半导 年，核心团队成员都是由具有极高学术专业水平的科研人员组成，都是ALD 体展览会上将2004年欧洲SEMI奖颁发给 方面的专家。Picosun团队，被广泛誉为“史上最棒的ALD团队”，已经对 Dr. Tuomo Suntola教授。 ALD贡献了100多项专利，我们与顶尖的研究机构和主流的工业单位密切合 作，巩固了我们在全球ALD研究的前沿位置。 由研究到生产独特的可扩展性 Picosun是一个在世界范围内销售并提供服务的国际性设备制造商。我们为 各种微米和纳米技术应用开发和制造ALD反应器。Picosun向客户提供用户友 好、可靠和最富成效的ALD工艺工具，并提供顶级的售后服务，示范涂层和 工艺咨询服务。Picosun公司坐落于芬兰的Espoo，其美国总部在底特律。 TM 使用SUNALE 型ALD系统的用户遍布全球，包括顶级科研机构和企业。 我们深谙其道 正因为我们一直专注于ALD，才使得我们如此卓越。我们做的不错，而其他 许多公司仍在努力挣扎。我们理解客户的需求，并能提供无与伦比的品质的 涂料解决方案，即使是对于最严格苛刻的研究和生产的要求也能够满足。 凭借我们独特的、结构紧凑、可升级的、通用的反应器设