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使用及管理办法 大同大学材料工程学系暨研究所
X光繞射儀使用及管理辦法
儀器名稱:X-Ray Diffractometer
廠牌: PANalytical
型號: X’Pert PRO MPD
儀器簡介
「儀器簡介」(附件一)
使用前注意事項及操作步驟
「使用注意事項」(附件二)及「使用安全守則」(附件三)
「操作步驟」(附件四)
儀器管理
校內使用者請填寫「校內使用預約表」(附件五)
未取得使用資格者請填寫「實習表格」(附件六)
校外使用者請填寫「貴儀中心委託檢測單」(附件七)
「管理、服務人員職責」(附件八)
附件一:儀器簡介
X光繞射儀
(X-Ray Diffractometer )
晶相的定性與定量分析
材料結構分析
材料內應變分析
材料殘餘應力分析
材料結晶度分析
PANalytical X’Pert PRO MPD
X光繞射儀利用加速電子撞擊金屬靶材,使其產生 X 射線,再將 X 射線照射在材料表面上,由於不同的晶體結構其晶面間距(d)會有所差異,且只有在X光照射射入角度滿足布拉格定律(Bragg’s law) 2dhklsinθ=nλ(其中hkl是各晶面之指標)時,才會產生建設性干涉,此時探測器(detector)可接收到較強的繞射光束訊號,而這主要是決定於晶胞的形狀、大小及對稱性,因此不同材料或不同結構所發生建設性干涉的角度也不同。此外,由於各種原子對X光散射的能力相異,當晶胞內組成原子不同時,雖結構相同也會造成不同程度的繞射強度。
基本上晶體之X光繞射實驗提供兩項重要訊息:一是繞射峰的位置(2θ),二是繞射鋒的強度(I)。第一項訊息提供了晶體之晶胞形狀與大小(即晶格參數)的資料;第二項訊息則提供了晶體內部組成原子種類及位置的資料。隨材料之晶體結構與組成的變化,每個晶體此兩項資料各不相同,正如同人類的指紋一樣,也就是不同結晶化合物會產生相異的{2θhkl,I hkl}組合繞射圖譜,因此可以利用X光的繞射分析來決定材料是屬於那一種礦物晶體或是結晶材料。
量測角度範圍: 2°~160° (2θ)
待機電壓: 40 kV
待機電流: 10 mA
工作電壓: 45kV
工作電流: 40mA
PANalytical X’Pert PRO MPD使用注意事項
《XRD預約公告》
使用資格
1.材料系凡修過材料檢定技術者,即具有使用資格。
2.專題生不可使用XRD,若需使用,需要有實驗室學長陪同操作4次(實習表格附件六,請自行影印),於實習4次後將實習表格交給管理者,即可預約使用。
開放預約時間
1.每週(四)中午12:30開放次週時段預約,以每間實驗室為單位,可先預約1個時段,超簽之預約時段,則由管理者從週日最末時段開始往前刪除至1個時段為止。
2.每週(五)中午12:30開放其餘時段預約,以每間實驗室為單位,每週總預約時段不得超過5個(包含週(四)所簽的時段,且不得替其它實驗室代簽),超簽之預約時段,則由管理者從週日最末時段開始往前刪除至5個時段為止,請各實驗室自行協調使用時段,並告知實驗室成員。
非材料系同學
1.預約者須旁聽本系材料檢定技術XRD課程(共6小時),或由材料系具使用資格之同學陪同操作4次後(實習表格附件六,請自行影印),將實習表格交給管理者,即可預約使用。
2.限於每週(五)中午12:30預約,非材料系總預約時段最多4個,超簽之預約時段,則由管理者從週日最末時段開始往前刪除至4個時段為止,請同學協調使用時段。
停權
1.未確實填寫使用登記表者,每次停權一週。
2.因人為操作不當,造成儀器損毀,停權一個月,並須重新取得使用資格。
閒置
1.為避免儀器有被閒置或者有預約者隨便預約之情形發生,凡預約時段過後20分鐘,原預約者未開始使用XRD,任何具使用資格者即可遞補該時段,與原預約者共負該時段使用責任,且由遞補者填寫使用登記表。
2.原預約者依然需負責該時段之使用責任與時段費用。
逾時
前時段預約同學使用時,請勿超過預約時段,以免影響到後時段預約同學之權益,否則後時段預約同學在電話告知後,即可終止前時段使用者之實驗,請同學相互協調。
PANalytical X’Pert PRO MPD使用安全守則
(操作儀器前請熟讀本守則)
1. 量測角度範圍2θ:2°~160°。(角度小於2°會傷detector)
2. 請平順開啟及關閉儀器之窗門,避免大力的撞擊
3. 待機狀態電壓電流為40kV-10mA,使用時電壓電流升至45kV-40mA操作狀態,每次電流升高5mA並停留5~10秒再繼續升高,使用完畢後降回待機狀態亦同
4. 如有任何問題,請立即聯絡儀器管理者:204結構材料實驗室(分機202) 李洋汎(0919511746)
附件四:操作步驟
X光繞射儀標準操作程序
廠牌
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