ATHENA工艺仿真系统-Silvaco.PDFVIP

ATHENA 工艺仿真系统 ATHENA 工艺仿真系统使得工艺和集成工程师 能够开发和优化半导体制造工艺流程。 ATHENA 提供一个易于使用、模块化的、可扩 展的平台。可用于半导体材料的模拟离子注入、 扩散、蚀刻、淀积、光刻、氧化及硅化。 ATHENA 通过仿真取代了耗费成本的硅片实 验，从而缩短了开发周期并且提高了成品率。 • 可迅速和精确地模拟应用在CMOS、双极、SiGe/SiGeC 、SiC、 SOI 、III-V、光电子和功率器件技术的所有关键加工步骤 • 精确地预测器件结构中的几何参数、掺杂分布和应力 • 简单易用的软件集成绘图性能，自动网格生成，工艺步骤的图形 化输入，以及简便导入既有的TMA工艺deck文件 • 博士级物理学家组成的TCAD中心支持团队，为先进的半导体技 术不断开发模型 • 帮助IDM、芯片生产厂商以及设计公司优化半导体工艺，使其达 到速度、产量、击穿、泄漏电流和可靠性的最佳结合 • 加速新工艺开发的投产和设备升级 SSuprem4是一个先进的2D工艺仿真器，广泛地 应用于半导体工业中Si、SiGe 以及化合物半导体 SSuprem4 技术的设计、分析和优化。SSuprem4运用广泛 的先进物理模型，精确模拟扩散、注入、氧化、硅 2D工艺仿真器 化和外延生长等的主要工艺步骤。 MC Implant 是一个基于物理的3D离子注入仿真 器，用于多晶体和非晶体材料的阻止本领和射程的 MC Implant 建模。它精确地为所有主要的离子/目标化合物预 测注入分布图和其损伤。 3D蒙特卡罗注入仿真器 Elite是一个先进的2D移动框拓扑仿真器，用 于模拟物理蚀刻、淀积、回流和化学机械抛光 Elite (CMP)工艺。 2D蚀刻、淀积仿真器 MC Etch/Depo是一个先进的拓扑仿真器。它包括 了几个基于蒙特卡罗的模型，用来模拟多样的使用 MC Etch/Depo 了原子微粒流的蚀刻和淀积工艺。 2D蒙特卡罗蚀刻、淀积仿真 Optolith是一个非平面的2D光刻仿真器，用于亚 微细粒光刻的各个方面的建模，如成像、曝光、光 Optolith 阻烘焙和光阻显影。Optolith完全接口于所有的 遵守GDSII和CIF格式