STEPPER曝光機介紹.pptx

STEPPER曝光機介紹 DPSS製程介紹 Wafer Coater HMDS DPSS製程介紹 Wafer Coater Stepper HMDS DPSS製程介紹 Wafer Coater Stepper Develop HMDS DPSS製程介紹 Wafer Coater Stepper Develop Dry Etch HMDS DPSS製程介紹 Wafer Coater Stepper Develop Dry Etch PR Strip HMDS STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 廠內機台編號 曝光機機型 Wafer Loader TYPE 汞燈TYPE E3 NSR-2005i8A I SUV-2000NIL (1500HR) E5 NSR-2005i9C I SUV-2001NIL/S (2500HR) E6 NSR-2005i9C II SUV-2001NIL/S (2500HR) E7 NSR-2005i9C II SUV-2001NIL/S (2500HR) E8 NSR-2005i9C I SUV-2001NIL/S (2500HR) E9 NSR-2005i10C II SUV-2011NIL/S (2500HR) E10 NSR-2005i10C I SUV-2001NIL/S (2500HR) E11 NSR-2005i10C II SUV-2011NIL/S (2500HR) E12 NSR-2005i10C II SUV-2011NIL/S (2500HR) E13 NSR-2005i10C I SUV-2001NIL/S (2500HR) E14 NSR-2005i10C I SUV-2001NIL/S (2500HR) E15 NSR-2005i10C I SUV-2001NIL/S (2500HR) TYPE Ⅰ TYPE Ⅱ STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 STEPPER曝光機介紹 1.當遇到MAX-MIN20時，請先確認平坦map是否有某區域異常突起。如有，先將wafer退出檢查晶背相同位置是否有particle，假如wafer晶背ok，用無塵布擦拭chuck異常的區域(可優先使用丙酮/IPA/DI WATER擦拭)。再測試平坦ok release，(擦拭時請留意chuck週遭的光學元件勿碰觸到solvent避免損壞) 。 2.如有擦拭chuck和wafer都沒辦法完全擦掉particle時，可使用平坦備用盒來釐清是wafer還是chuck issue再針對細項做擦拭處理或是更換平坦控片。 STEPPER曝光機介紹 ♠晶片傳送異常判讀 ex. wafer loader error: side slide arm vacuum error (side slide 手臂真空異常) 晶片傳送異常:真空異常 (3)代碼:6A Side slide 1.確認晶片位置 選擇(8) remove wafer ，確認實際上與螢幕顯示片數是否符合。若不符合，以螢幕顯示片數為主，手動取出wafer。 2. 復歸晶片傳送裝置: 2-1按下EMO stop，手動移動手臂到安全位置。 STEPPER曝光機介紹 2-2 檢查OF arm位置是否正確，OF up/down 手臂在上升位置是不正確，打開下方長條蓋板，中間位置OF PCB 上有兩根小搖桿， 原始位置E3（右右）E4(右左)，撥到（左左）OF arm 就會降下，將兩根小搖桿撥回原始位置（右右）。 2-3按下螢幕下方 W.LDR reset紅燈會亮，完成後紅燈熄滅，代表WL reset 成功。 STEPPER曝光機介紹 3. Unload wafer: 將原有cassette 移除，放入空的cassette，選擇 (8) remove wafer 將狀態改為unload，按下PF1 remove wafer，stage上的wafer 會退回cassette，status 顯示*** 為已經曝光完成，待顯影完成，請OP目檢有無異常。 STEPPER曝光機介紹 曝光機軟體當機處理流程： 1.當發現按鍵盤按鍵，軟體無任何反應，先將傳送手臂上的wafer手動取出，接著按PDP COMPUTER上RESTART按鍵值型電腦重開動作。 2.軟體執行到下圖顯示訊息時，請KEY入當時時間。 STEPPER曝光機介紹 3.軟體執行到下圖顯示訊息時，請KEY入@OPENUP執行開機。 STEPPER曝光機介紹 4.軟體執行到下圖顯示訊息時，請依下圖所示選擇RESTAR