光刻胶用底部抗反射涂层研究进展.pdf

第 卷 第 期 影 像 科 学 与光 化 学 年 月 综 述 光刻胶用底部抗反射涂层研究进展 王 宽 刘敬成 刘 仁 穆启道 郑祥飞 纪昌炜 刘晓亚 江南大学 化学与材料工程学院江苏 无锡 苏州瑞红电子化学品有限公司江苏 苏州 摘 要随着微电子工业的蓬勃发展光刻技术向着更高分辨率的方向迈进运用底部抗反射涂 层有效消除光刻技术中的驻波效应凹缺效应提高关键尺寸均一性和图案分辨率引起了广大 研究者的关注本文简要介绍了光刻胶和光刻技术底部抗反射涂层的分类基本原理刻蚀工 艺以及其发展状况重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结尤其是碱溶型底部抗 反射涂层在光刻胶中的应用研究最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望 光刻胶光刻技术底部抗反射涂层 关 键 词 文章编号 反应进行精细图形转移的感光性高分子材料主 引言 要应用于集成电路半导体分立器件平板显示器 等光电子领域微细图案的加工 光刻技术是 近 年随着微电子技术的迅速发展全球 指利用光刻胶材料在光照作用下经过曝光显影 信息化网络化呈现出日新月异的景象微电子技 刻蚀等工艺将掩膜版 上的图案转移到基体 术发展水平的高低直接决定着集成电路的集成程 上的微细图案加工技术其具体的工艺过程如图