Cu在ZrO2111薄膜载体上的生长与界面相互作用-催化学报.PDF

2012 Chinese Journal of Catalysis Vol. 33 No. 10 文章编号: 0253-9837(2012)10-1712-05 DOI : 10.3724/SP.J.1088.2012.20640 研究论文: 1712–1716 Cu 在 ZrO (111) 薄膜载体上的生长与界面相互作用 2 侯建波, 韩 永, 潘永和, 徐 倩, 潘海斌, 朱俊发* 中国科学技术大学国家同步辐射实验室, 安徽合肥 230029 摘要: 采用分子束外延法在 Pt(111) 单晶表面上制备有序的 ZrO2(111) 薄膜, 利用低能电子衍射谱、同步辐射光电子能谱和 X 射线光电子能谱研究了 Cu 纳米颗粒在 ZrO2(111) 薄膜表面的生长模式和界面相互作用. 结果表明, 室温下 Cu 先以二维模式 生长到 0.15 单层 (ML), 接着以三维模式生长. 随着 Cu 覆盖度的减小, Cu 2p 3/2 峰逐渐向高结合能位移, 可归因于初态效应和 终态效应共同作用的结果. Cu 最初沉积到 ZrO2 表面时, 两者间存在较强的相互作用, Cu 向 ZrO2 衬底传递电荷, 以 Cu(I) 形式 出现. 当 Cu 覆盖度增加到 1 ML 以后, Cu 开始表现出金属特征. 关键词: 铜; 二氧化锆; 低能电子衍射谱; X 射线光电子能谱; 同步辐射光电子能谱; 界面相互作用; 初态效应; 终态效应 中图分类号: O643 文献标识码: A 收稿日期: 2012-06-20. 接受日期: 2012-07-25. *通讯联系人. 电话: (0551)3602064; 传真: (0551)5141078; 电子信箱: jfzhu@ 基金来源: 国家自然科学基金 ; 中国科学院“百人计划”; 国家重点基础研究发展计划 (973 计划, 2010CB923302). Growth and Interfacial Interaction of Cu on ZrO (111) Thin Film 2 * HOU Jianbo, HAN Yong, PAN Yonghe, XU Qian, PAN Haibin, ZHU Junfa National Synchrotron Radiation Laboratory, University of Science and Technology of China, Hefei 230029, Anhui, China Abstract: The growth mode and interfacial interaction of Cu nanoparticles on the ordered ZrO2(111) thin film surfaces have been studied by low energy electron diffraction, synchrotron radiation photoemission spectroscopy, and