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使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下对 SiO2 纳米颗粒进行 高灵敏度分析 应用简报 材料、环境与食品 作者 Michiko Yamanaka 和 Takayuki Itagaki 安捷伦科技公司，日本 Steve Wilbur 安捷伦科技公司，美国 前言 纳米材料正越来越多地用于工业过程、制成品、药品以及化妆品、防晒霜和食品 等消费品领域。由于纳米颗粒 (NP) 的环境行为以及被人体吸收后可能产生的毒 性作用尚不明确，因此对 NP 的测量是人们关注的重点。 ICP-MS 是一种测量材料元素含量的成熟技术；近期发展起来的单颗粒采集模式 (spICP-MS) 目前可提供一种表征样品中 含量的强大方法。采用 NP spICP-MS 记录所分析溶液中单个 NP 产生的目标元素信号，从而对所含颗粒的数量、浓度 和粒径，以及溶解元素浓度实现同步测量。多位研究人员已对这种方法进行了开 发 ，如今现代 仪器也能够提供支持 表征的自动采集与校准方 [1-4] ICP-MS NP 法。当前 ICP-MS 系统具有较短的驻留时间，分析单一同位素时测量间无需稳 定时间即可连续采集数据。在驻留期间总背景计数成比例下降时，来自颗粒羽流 的信号并不会降低，因此这一系统可检测更小的颗粒。然 本研究采用配备单纳米颗粒应用模块软件的 Agilent 8900 而，如果驻留时间比羽流持续时间（通常在 0.5 ms 左右） ICP-MS/MS 在 spICP-MS 模式下对 SiO NP 进行测量。 2 短，分析物的信号也会随驻留时间的缩短而降低。这就增 文中对该仪器测量 SiO2 的性能进行了讨论。 加了计数统计的误差。使用最高灵敏度（信噪比）和合适 实验部分 的驻留时间对维持计数率的统计有效性至关重要。 通过传统四极杆 ICP-MS 实现 NP 的准确测量面临着诸多 标准物质和样品前处理 标称直径为 50 nm 、60 nm、100 nm 和 200 nm 的 SiO NP 挑战，特别是区分背景信号与小颗粒产生的信号的能力方 2 面。因此，迄今为止报道的许多研究仍集中于银和金等相 标准物质购自 nanoComposix (San Diego, USA) 。用去离子 对易于通过 ICP-MS 测量的元素也不足为奇。这些元素有 水 (DI) 将所有标准物质稀释至颗粒浓度为 40-1000 ng/L ， 随后超声处理 5 分钟以确保样品的均匀性。为检查 CO 干 较高的灵敏度，通常不易受到干扰物的影响，一般也不存在