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一种IC晶片导线特征检测方法的研究.pdf
计算机测量与控制.2008.1 6(4)
· 470 · Computer Measurement Control 白ll动化:测试
文章编号:1671—4598(2008)04—0470—03 中图分类号:TP391 文献标识码:A
一 种IC晶片导线特征检测方法的研究
崔山领,吴黎明,肖乐萍
(广州大学城广东工业大学信息工程学院,广东广州 510006)
摘要:针对IC晶片导线特征检测中的难点.介绍一种基于图像处理技术的导线特征分析和缺陷检测方法,把由局部缺陷引起的线路
短路、开路故障分析归结为多条平行线宽和线距的分析.先通过Hough变换实现导线边缘的直线拟合和线宽、线距的亚像素测量,再根
据测量结果建立起导线边缘标准模型,并把边缘图像的二维信号转换为一维信号进行分析,最终实现导线特征的分析和缺陷的定位;仿
真和实际运用结果表明该方法使Ic晶片导线特征分析简单化,并使缺陷分析定位变得更加方便灵活。
关键词:IC晶片;L()G算子;Hough变换;导线特征
Research On Inspection Method for IC Circuit Character
Cui Shanling,Wu I iming,Xiao I eping
(Information Engineering Institute,Guangdong University of Technology,Guangzhou 510006,China)
Abstraction:A method of inspection for IC wafer circuit character is presented in this article,putting forward a point that taking on the
analysis to the width of multi—parallels and the distance between them as the analysis to the circuit failure caused by local defection.The
Hough transform is applied in line fitting,width and distance measurement,then building a standard model of circuits edge,SO as to realize
the analysis to the feature of wire and defect position.Simulation and experimental results show that the proper method gives a simple analy—
sis method of IC circuit character,and more convenience for IC defect analysis and Location.
Key words:IC wafer;I OG operator;Hough transform;circuit character
0 引言 品质和外界采集环境。由于 IC晶片图像的采集是通过高放大
倍数的显微镜获得的,受到光照不均匀、光线强弱、外界噪声
信息产业的迅速发展,使得集成电路芯片生产高速增长,
干扰等因素的影响,使采集到的图像质量受到很大影响,在图
并广泛应用于各类电子设备中,例如家电、仪器设备、航空
像处理之前必须消除这些因素的影响。
等。特别是近几年,随着国家产业结构的调整,我国已经能够
光照影响主要引起图像对比度下降,在处理之前必须对图
生产出8英寸0.18微米和
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