电镀添加剂的作用原理及其应用.pdf

维普资讯 屹皲，1。 第 24卷 1995年第 2期 广 西 化 工 l7 电镀添加剂的作用原理及其应用 ， {[7，6 陈光全 — ，———～ 了 (广西玉林地区教育学院 537000) (广西师范大学 桂林 541004) ／ 介绍了电镀攥加荆的作用原理、分类以及可作掭加荆物质的应用效果。 作用 。 1 前言 赛验结果表 明，在 电镀液不搅拌的情况 在 电镀工业 中，为了改善镀层性状 以及 下 ，金属进行 电沉积结 晶时，阴极 电极表面 获得光亮如镜的镀层 ，常于 电镀液中加入少 由于存在突峰和凹谷，导致两者扩散层厚度 量 电镀添加剂。不同的添加物质，在 电镀过 不同。这样 电极的突峰部分迅速生长形成树 程 中起到不同的作用 。能使镀层得到整平的 枝状结晶，而使镀件不能形成光亮的表面。整 叫整平剂或平滑剂 ；而能使镀层产生光泽的 平剂的加入可改变镀件表面微观轮廓的电流 则叫光亮剂 ．添加物质通常有无机化合物和 分布，金属离子在突峰处的沉积作用遇到较 有机化合物 。它们在 电镀过程 中的作用机理 大的阻碍，相反容易在凹谷处沉积。从而填 较复杂，通常按其作用机能不同，分为第一 平沟槽、划痕 ，达到表面的整平作用。也就 光亮剂与第二光亮剂两类 。 是说，在阴极表面微观的突峰部位，整平剂 随着 电镀工业的发展，对镀件质量的要 的浓度高，吸附量与极化作用增大，而在凹 求愈来愈高，电镀添加剂的应用也愈来愈广， 谷部位，整平剂的浓度相对较低 ，极化作用 更体现 出添加剂应用 的重要性 ．因此 。了解 也较小 如此在凹谷部位 电沉积速度增大 ，从 电镀添加剂的作用原理 ，科学选用各种添加 而使阴极薄膜的厚度在突峰和凹谷部位产生 物质，对改善镀层质量、提高电镀效率具有 不同效果。若在 电镀液搅拌的情况下，阴极 重要意义。 薄膜变薄，特别是在突峰处这种倾 向更为显 著。相对来说，在凹谷部位由于搅拌而使阴 2 电镀添加剂的作用原理 极薄膜的减少则非常轻微，从而增强了整平 电镀添加剂在电镀过程中的作用机理 比 效果。实践证明，在其它操作条件不变的情 较复杂，至今仍有不少问题尚待深入研究。但 况下，电流密度愈低 ，pl-I愈高 ，整平作用愈 从大量试验结果表明，添加剂的加入首先起 好 ；在相 同条件下，电镀液温度愈高 ，整平 到表面的整平作用。我们知道，从微观角度 效果愈理想 看，电镀件表面通常是凹凸不平的 添加剂 其次是添加剂起到选择吸附、细化结 晶 的加入可使镀件的粗糙度减少 ，改变镀件表 的作用。添加剂特别是有机添加剂，通常是 面微观轮廓的电流分布，使金属填平其微观 隅极矩较大的有机分子。当在阴极表面上吸 的沟槽、划痕．形成平滑的表面而起到整平 附后．就会改变界面上的电位分