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半导体工业废水中除砷的研究
19 1 ( ) Vol. 19 No. 1
2 0 0 4 3 JOURNAL OF QINGDAO UNIVERSITY ( ET) Mar . 2 00 4
: 1006 9798( 2004) 01 0087 06
半导体工业废水中除砷的研究
韩利军, 崔育倩, 骆德馨, 余季金, 马玉新
( 青岛大学环境科学系, 山东 青岛266071)
: ,
,
,
,
,,
,,
: ;; ;;
: X703 : A
,,
,,
[ 1]
:,
,
,,,
50 g/ L ,
1
1. 1
1) ASF- 920( ) ;AA- 70
( HP )
2) , As: 1~ 100 mg/ L, a: 20 mg/ L, In: 120 mg / L;
pH:6.5~ 8. 5; :H( ) ; : STR () ; : ( ) ;
:()
1.2
1) As(V) As(III) 30 %,As( III) As(V)
, , (KMnO )
4
[2- 3]
:
3- - 3-
AsO3 + MnO4 AsO4 + MnO2 ( 1)
3- - 3-
As + MnO AsO + Mn O (2)
4 4 2 3
2)
:2003 10 08
:( 1980 ) , , , ,
88 ( ) 19
[4- 5]
, , ,
5.09 mg/ g,
18.3 mg/ g21. 2 mg/ g
3) , Ca (AsO ) 3H O ( 0. 013 mg/ L) , Ca (AsO ) Ca
3 4 2 2 3 4 2
(OH) (0.002 3~ 0.004 8 mg/ L) , FeAsO 2H O ( ) , a(OH) () In( OH) ()
2 4 2 3 3
, Ca(OH ) Fe ( SO ) [6- 8] :
2 2 4 3
2+ 3-
3Ca + 2AsO4 Ca3(AsO4)2 (3)
3Ca(OH) + Fe (SO ) 3CaSO + Fe(OH) (4)
2 2 4 3 4 3
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