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物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao) 502 Acta Phys. Chim. Sin., 2008, 24(3) :502-506 March [Note] H CO 与双卤分子间卤键的电子密度分析 2 影1,2 曾艳丽1 孙 政1 郑世钧1 孟令鹏1,* (1 北师范大学化学与材料科学学院, 计算量子化学研究所, 石家庄 050016; 2 北农业大学理学院, 北保定 071001) 摘要: 运用B3LYP 和MP2 方法在6 311++G(d,p)基组水平上, 对H CO XY(XY=F 、Cl 、Br 、ClF 、BrF 、BrCl) 卤 2 2 2 2 键体系进行构型全优化, 得到了O…X—Y 型卤键复合物. 结果表明, MP2/6 311++G(d,p)计算结果与实验值较吻 合. 并在MP2 水平下计算了分子间的相互作用能, 用完全均衡校正CP(counterpoise procedure)方法对基函数重 叠误差(BSSE)进行了校正. 利用电子密度拓扑分析方法对卤键复合物的电子密度拓扑性质进行了分析研究. 关键词: 卤键; 电子密度拓扑分析; MP2; 卤分子 中图分类号: O641 Topological Analysis of Electron Density on the Halogen Bond between H CO and Dihalogen Molecules 2 ZHAO Ying1,2 ZENG Yan Li1 SUN Zheng1 ZHENG Shi Jun1 MENG Ling Peng1,* 1 ( Institute of Compu tational Quantum Chemistry, College of Chemistry and Material Sciences, Hebei Normal University, Shijiazhuang 050016, P. R. China; 2College of Science, Agricultural University of Hebei, Baoding 071001, Hebei Province, P. R. China) Abstract: Theoretical studies on the halogen bond in complexes of H CO and dihalogen molecules (F , Cl , Br , ClF, 2 2 2 2 BrF, BrCl) were carried out at the levels of B3LYP/6 311++G(d,p) and MP2/6 311++G(d,p). O…X—Y type halogen bonded complexes were obt

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