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幽3、120术加乐㈨化的基片断面}c《【片(略1
图4、120加压同化的基片断面j!{{片(略)
图5、1
50术加压崩化的胶层断面照片(略)
朗3、150加压吲化的股层断面照片(略)
以上显微分析说明了加压吲化是十分重要的一l‘艺条件,比较而言,120和】50温度导致的差
异要小一些.这从表一的试验数据也可看山。究其原冈,是因为加压不仅能促进胶粘剂与胶接表面
的润湿,还能提高胶接剂对表面微孔的渗透,这对提高粘附性是很有用的。此外,胶粘剂在压力下
会产生流动,从而在整个粘接面得到一层厚度均匀而致密的胶膜,同时,加压也有助于排出胶液中
的挥发成分,避免在胶层内产生空洞年11气泡。
55{,b,粘合面的粗糙度与不平整度会直接影响秸台面的有敛粘结面积。显微镜下观察发现,有
的只在粘合的中心部位有胶,而有的从边缘开始有较大的无胶医,如图7所示。这可能是由于粘结
面不平所致。应在首先平整的前提下,适当的租糙有利丁胶液在粘台面的凹处产生钉键作用,增大
粘附力。断面局部有胶也可能是涂胶餐太少,不能保证胶接面充分浸润。但涂胶量也并非越多越好,
要根据胶液浓度、比重及胶接面的粗糙度等多种因素来决定,这也可根据试验来确定,一般认为胶
5mm。
层厚度应控制在O.08.-,0.1
图7、局部有胶的胶层断面照片(略)
4. 结束语
对微带器件的介质材料和铁氧体基片的粘结层断面显微分析结果表明,在150固化并对粘结
件施加压力的条件下粘结教果最好。但还要注意被粘结面在枯结前的机/jntL处理、清洗,表面的预
处理,涂胶量等多种因素.以擐住的1‘艺条件,确保微波器件粘结的可靠性。
参考文献(略)
永磁合金中钴铬锰测定方法的研究
西南应用磁学研究所 魏宏 杨止伟
摘要:研究了智钴铬锰永磁台金中钴、铬、锰的测量方法。在酸性环境及加热条件,以过硫酸铵氧
化成MnO:而沉淀分离,滤液经掩蔽其它元素后,加过量EDTA,以ZnCI:返滴定钴:铬及锰以还
原法连续测定。所拟方法准确度高,精密度好,网收率大丁99
6%,结果满意。
关键词:永磁台金 容量法 钴铬锰 删定
l 引言
对含钴铬锰的永磁台金来说,困难于找到合适的锰的掩蔽剂雨无法直接以容量法测定钴;锰
的干扰使钴的电位法测定亦难以进行:同时铬的存在亦使锰的电何法也难以进行。本文研究了在酸
性及加热条件下,沉淀分离锰,同时铬被氧化成人价铬而被掩敞:冈沉淀在酸性介质中进行,除锰
45
外,其它元素均不沉淀,选择性高,吸附少:滤液以氟化饷掩蔽钐铁…,以硫腮掩蔽铜,加过母EDTA
酸铵氧化成高价,以二价铁标准溶液作铬锰的连续滴定。
2. 试验
2.1主要试剂
锰标准溶液:lg,L
钴标准溶液:19/L
铬标准溶液:lg,L
EDTA标准溶液:O.0250mol/L
0249mol/L
ZnCl2标准溶液:0
硫酸亚铁标准溶液:0.0204mol/L
硝酸银溶液:2%水溶液
二苯胺磺酸钠溶液:0.2%硫酸溶液
缓冲溶液:pH=5.5
5缓冲溶液,
称取结晶醋酸纳2009.加水溶解,加冰醋酸9ml,稀至100ml,此为pH=5
二甲酚橙指示液:O.2%水溶液
2.2钴的分析方法
300 ml一
准确称取试样约lg(精确至0.0002 ml烧杯中,加HNO,(1+I)溶解,加水至100
g)r
℃加过硫酸1~2
g,加热至沸再煮沸2分钟至无小气泡冒出,冷却至宝温,转移至250ml容蓬瓶中,
mI 300
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