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半导体超纯水设备工艺与作用 　　在电子工业制造中半导体的应用是比较多的，对于我国电子产业发展贡献也很大。在半导体生产中纯水的的重要作用日益突出，水质影响半导体的质量。因此半导体超纯水设备产水水质必须达标，符合GB11446-1989电子级水等级标准。 　　半导体超纯水设备工艺 　　现在超纯水的制取主要多种工艺，其中最为环保节能的就是EDI工艺。半导体超纯水设备的工艺就是RO与EDI的结合，原水通过原水箱和提升泵再到四级预处理系统。预处理主要是由过滤器和软水器组成，可以除去悬浮物、胶体、泥少等等。再通过双级反渗透和EDI相结合的方式，最后通过微孔过滤器和紫外线杀菌器。 　　半导体超纯水设备作用 　　半导体是电子工业中最为重要的组成，它的制造过程中离不开纯水。半导体超纯水设备的出水水质，可以来做清洗用水和配制各种溶液、浆料等。如果纯水的水质不达标可能会造成严重的后果，水质是影响质量和生产成本的重要因素之一。 　　半导体超纯水设备优点 　　科技的进步设备的更新换代在加快，半导体超纯水设备采用当今最先进的制取技术，有效降低了各方面的能耗极为环保。EDI系统与传统的混床相比，模块化的设计工作时能方便维护。保护环境无需酸碱再生，可以简单的操作节省人工成本。 　　我国近些年来高精科技产业发展快速，做为主力军的电子工业发展更是成果显著。电子产品中重要组成部分的半导体作用很大。半导体超纯水设备又是其生产过程中不可缺少的辅助，出水水质决定产品的质量和生产成本等。设备的为EDI技术产水过程是稳定连续，易操作还可以灵活构造。